光刻胶用PHS系列树脂的开发

地区：江苏省南京市

关键词：江苏省技术产权交易市场

需求类型：其它

需求领域：新材料

需求编号：D2021061600002887

解决方案：暂无

审核状态：通过审核

需求描述：

聚对羟基苯乙烯具有良好的深紫外光透过能力、碱溶性和抗干蚀刻能力，成为深紫外光致抗蚀剂主体成膜树脂的首要选择。目前，国外已经开发出了多种部分保护的聚羟基苯乙烯，作为深紫外光致抗蚀剂的成膜树脂，最大分辨率可达0.13um左右，甚至需要做到更高的分辨率。我国在光刻胶的研制方面还有很大的差距，尤其是高性能正性光刻胶及其原料，如248nm光刻胶及其光刻胶树脂，严重依赖进口。开发248nm光刻胶专用的PHS树脂对于打破国外垄断，实现248nm光刻胶树脂的国产化具有重大意义。产品质量目标： 1. t-BOCblockedpolymer 分子量：Mw=8000~12000，PDI＜1.8；金属离子：小于50ppb，残单体小于1%，水分<0.2%。 2. EVEblockedpolymer 分子量：Mw=8000~12000，PDI＜1.8；金属离子：小于50ppb，残单体小于1%，水分<0.2%。 3. Co-polymer 分子量：Mw=8000~20000，PDI＜1.8；金属离子：小于50ppb，残单体小于1%，水分<0.2%。 4. Ter-polymer 分子量：Mw=8000~15000，PDI＜1.8；金属离子：小于50ppb，残单体小于1%，水分<0.2%。以上，废水量控制＜总投料量的10倍量；废溶剂（甲醇等）实现回收套用。成果匹配

光刻胶用PHS系列树脂的开发

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