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大容量高纯SiC多晶原料合成炉研制及配套工艺包
地区:
北京市 西城区
关键词:
中国创新挑战赛
需求类型:
其它
需求领域:
新材料
需求编号:
D2021061600002103
解决方案:
暂无
审核状态:
通过审核
需求描述:
(包括主要技术、条件、成熟度、成本等指标)随着第三代半导体产业的蓬勃发展,碳化硅衬底的需求量以每年30%-50%的速度增长。作为碳化硅衬底生产的核心原材料。小量的碳化硅原料的生产,越来越不能满足迅速变大的碳化硅原料的需求量。产业急需高产量、高质量碳化硅原料的生产设备及生产工艺。1)高产量碳化硅原料合成设备,指标:极限真空:<5E-7mbar漏率:12h漏率<5Pa热场安装空间:>φ420×400加热温度:>2400℃工艺气体:Ar气等温控精度:±1℃控压系统:±0.1Torr自动化系统:可编程大于100段程序2)高产量、高质量碳化硅原料合成工艺,指标:原料纯度:主要杂质含量<1PPM原料颗粒度:80-8目单炉产量:>14Kg月产量:>190Kg生产成本:800元/kg
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